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光掩模

2018-08-20 16:33:27     所属分类:半导体器件制造
一片光掩模的展示品

光掩模英语:Reticle, Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理[1]。比如冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。

结构

  • 实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。
  • 倍缩光掩模(Reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。
  • 光掩模(Mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光掩模。

种类

相位移光掩模、二元光掩模

参考文献

  1. ^ 光掩模.Mask.Reticle 互联网档案馆的存档,存档日期2010-10-03.

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